近日，《日經(jīng)亞洲》發(fā)布報道，揭示了ASML公司在日本半導體制造業(yè)布局的最新動向。隨著日本半導體制造領域的持續(xù)擴展，以及對先進光刻機需求的不斷增長，ASML計劃在未來幾年內(nèi)大幅擴大其在日本的維護團隊規(guī)模。

據(jù)悉，ASML駐日本的維護團隊規(guī)模有望在現(xiàn)有基礎上增至五倍，預計到2027年將達到100人。這一舉措旨在更好地滿足日本客戶對光刻機維護和技術(shù)支持的需求，進一步提升ASML在日本市場的服務響應速度和效率。

報道指出，日本境內(nèi)至少有三個重要項目即將引入ASML提供的EUV光刻設備。其中包括Rapidus位于北海道千歲市的IIM晶圓廠，該廠將采用2nm邏輯工藝；美光在廣島的內(nèi)存生產(chǎn)線，計劃采用1-gamma DRAM技術(shù)；以及臺積電日本子公司JASM的二期晶圓廠，專注于6/7nm邏輯工藝。

若考慮DUV光刻機的應用，ASML在日本市場的設備持有量將進一步增加。為了更有效地支持這些客戶，ASML決定擴大其在日本的本地支持團隊。這一舉措將幫助ASML在日本客戶提出需求時能夠迅速響應，及時處置問題，從而最大限度地減少停機時間，降低客戶的損失。

隨著半導體行業(yè)的快速發(fā)展和競爭的日益激烈，ASML的這一戰(zhàn)略調(diào)整無疑將為其在日本市場的業(yè)務拓展提供有力支持。同時，這也將進一步鞏固ASML在全球光刻機市場的領先地位。