近期，據(jù)Tom's Hardware外媒報道，日本半導(dǎo)體行業(yè)新星Rapidus的首席執(zhí)行官小池淳義在公開訪談中透露，該公司計劃在北海道千歲市的創(chuàng)新集成制造工廠（IIM-1）及規(guī)劃中的IIM-2工廠內(nèi)，部署總共10臺極紫外（EUV）光刻機。然而，具體的安裝時間表尚未對外公布。

回顧去年12月的報道，Rapidus曾提及將引入TWINSCAN NXE:3800E系統(tǒng)的光刻機，但對于是否會采用其他型號的光刻設(shè)備，目前仍不明確。

在技術(shù)創(chuàng)新與合作的道路上，Rapidus亦展現(xiàn)出積極姿態(tài)。公司已與美國芯片巨頭博通攜手，目標(biāo)直指2納米尖端芯片的量產(chǎn)，并計劃在今年6月向博通提供試產(chǎn)樣品。這一舉措標(biāo)志著Rapidus在高端芯片制造領(lǐng)域的雄心壯志。

除了與博通的合作，Rapidus還贏得了Preferred Networks的信任，后者已委托其代工2納米芯片，用于生成式AI處理。Rapidus正積極與30至40家企業(yè)洽談代工業(yè)務(wù)，意圖通過承接定制化的少量多品種半導(dǎo)體訂單，與臺積電等傳統(tǒng)大規(guī)模生產(chǎn)模式形成差異化競爭，開辟半導(dǎo)體制造的新路徑。

Rapidus的這一系列舉措，不僅彰顯了其在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的深厚實力，也預(yù)示著未來半導(dǎo)體代工市場或?qū)⒂瓉硇碌母偁幐窬帧ｋS著技術(shù)的不斷進步和市場的多元化需求，Rapidus有望成為推動半導(dǎo)體行業(yè)創(chuàng)新發(fā)展的重要力量。